一种掩膜版、制作方法及制作夹具
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种掩膜版、制作方法及制作夹具,涉及显示设备技术领域;技术方案:掩膜版本体工作面上拱,能够提高掩膜版本体的结构强度,减小掩膜版本体因材料本身刚度、重力和受热膨胀的下垂量,或避免掩膜版本体下垂,以通过掩膜版本体支撑金属精细掩膜版,减小金属精细掩膜版的下垂量或避免金属精细掩膜版,从而降低显示屏混色比例和混色风险,提高显示屏的成品率。掩膜版制作方法,在掩膜版本体的工作面涂覆张应力涂层或在掩膜版本体结构面涂覆压应力涂层,均可获得前述的掩膜版本体。掩膜版制作夹具,包括掩膜版边框装载框和支撑板,支撑板位于装载框上端且各侧与装载框对应的侧壁连接,可通过支撑板可对掩膜版提供支撑。
基本信息
专利标题 :
一种掩膜版、制作方法及制作夹具
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114411091A
申请号 :
CN202210105205.0
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2022-01-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘鑫郑庆靓李博吴义超赵阳周俊吉
申请人 :
成都拓维高科光电科技有限公司
申请人地址 :
四川省成都市高新区康强一路1188号
代理机构 :
成都蓉创智汇知识产权代理有限公司
代理人 :
朱彬
优先权 :
CN202210105205.0
主分类号 :
C23C14/04
IPC分类号 :
C23C14/04 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/04
申请日 : 20220128
申请日 : 20220128
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载