掩膜板
授权
摘要
本实用新型涉及显示技术领域，提供一种掩膜板，包括板体，所述板体上布设有若干个图案单元，各所述图案单元上分别设置有掩膜，所述掩膜的半透率根据对应的所述图案单元进行适应性调整。本实用新型提供的掩膜板的板体上布设若干个图案单元，并在各个图案单元上分别设置半透率不同的掩膜，从而利用各个图案单元上不同半透率的掩膜以得到不同高度差的产品，即实现一块掩膜板能够满足多个高度差产品的需求。
基本信息
专利标题 ：
掩膜板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022100093.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-22
授权号 ：
CN214067573U
授权日 ：
2021-08-27
发明人 ：
李威宋小来王士敏朱泽力古海裕
申请人 ：
深圳莱宝高科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明新区高新技术产业园区五号路9号
代理机构 ：
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
陈卓宏
优先权 ：
CN202022100093.9
主分类号 ：
G03F1/32
IPC分类号 ：
G03F1/32
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/26
相移掩膜；PSM空白；其制备
G03F1/32
衰减PSM,例如半色调PSM或者有半透明相移部分的PSM；其制备
法律状态
2021-08-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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