光掩模坯
实质审查的生效
摘要
本发明涉及光掩模坯，其包含透明衬底和含铬膜。所述含铬膜由一个铬化合物层构成，铬化合物层由包含Cr、N和可选的O的铬化合物形成，并且具有如下组成：Cr含量≥30at％，Cr+N+O总含量≥93at％，且满足式：3Cr≤2O+3N。所述第一组成是：N/Cr原子比≥0.95，Cr含量≥40at％，Cr+N总含量≥80at％，O含量≤10at％。
基本信息
专利标题 ：
光掩模坯
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114326285A
申请号 ：
CN202210025041.0
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2016-08-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
笹本纮平稻月判臣
申请人 ：
信越化学工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
何杨
优先权 ：
CN202210025041.0
主分类号 ：
G03F1/26
IPC分类号 ：
G03F1/26 G03F1/32
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/26
相移掩膜；PSM空白；其制备
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/26
申请日 : 20160831
申请日 : 20160831
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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