一种基于信息论的成像分辨率增强方法
授权
摘要
本发明提供一种基于信息论的成像分辨率增强方法，首先根据信息理论建立PSM的光刻系统信道模型，然后求解信息理论下的最优掩模概率分布、最优光刻系统参数集合，以及最优工艺参数集合，最后采用信息理论方法建立PSM优化算法的数学模型，提高算法收敛精度；由此可见，本发明实质为用信道模型模拟光刻系统，将光刻成像过程抽象为PSM掩模信息在信道中传输的过程，将PSM图案与其对应的光刻成像视为信道的输入信号与输出信号，将光刻系统参数和光刻工艺参数等视为影响PSM信息传输的信道参数，采用算法对PSM掩模进行优化相当于对输入信号的编码过程，进而能够通过信息论方法提高PSM掩模优化算法的收敛精度。
基本信息
专利标题 ：
一种基于信息论的成像分辨率增强方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113433790A
申请号 ：
CN202110729150.6
公开（公告）日 ：
2021-09-24
申请日 ：
2021-06-29
授权号 ：
CN113433790B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
马旭潘毅华
申请人 ：
北京理工大学
申请人地址 ：
北京市海淀区中关村南大街5号
代理机构 ：
北京理工大学专利中心
代理人 ：
刘西云
优先权 ：
CN202110729150.6
主分类号 ：
G03F1/26
IPC分类号 ：
G03F1/26 G03F1/36
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/26
相移掩膜；PSM空白；其制备
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2021-10-15 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/26
申请日 : 20210629
申请日 : 20210629
2021-09-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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