基于标准成像空间的高分辨率荧光分子断层成像方法
公开
摘要

本发明属于荧光分子断层成像领域,具体涉及了一种基于标准成像空间的高分辨率荧光分子断层成像方法,旨在解决现有技术数据融合与配准复杂,荧光分子断层成像准确性和精度低的问题。本发明包括:基于网格化的SIS完成结构数据和荧光数据的融合配准;计算前向模型得到系统矩阵;结合最小二乘和弹性网络正则化构建目标函数;利用松弛的交替方向乘子法优化;针对不适定性和光源的非负稀疏先验对变量迭代方式等价转换和修正,获得荧光分子断层成像结果。本发明实现了先验信息获取的自动化和标准化,避免繁琐的人工操作,避免重建结果的过稀疏和过平滑,能实现近距离的小荧光源的高分辨率重建,同时具有很好的形态和位置精度。

基本信息
专利标题 :
基于标准成像空间的高分辨率荧光分子断层成像方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114557680A
申请号 :
CN202210445460.X
公开(公告)日 :
2022-05-31
申请日 :
2022-04-26
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
安羽严达祥李光辉杜洋李佳倩
申请人 :
北京航空航天大学
申请人地址 :
北京市海淀区学院路37号
代理机构 :
北京市恒有知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
郭文浩
优先权 :
CN202210445460.X
主分类号 :
A61B5/00
IPC分类号 :
A61B5/00  G06T3/40  G06T7/00  G06T7/11  G06T7/136  G06T7/33  G06T11/00  G06T17/20  
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学;卫生学
A61B
诊断;外科;鉴定
A61B5/00
用于诊断目的的测量;人的辨识
法律状态
2022-05-31 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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