X光高分辨率成像探测装置

授权

摘要

本实用新型涉及X光成像技术领域，公开了一种X光高分辨率成像探测装置，包括：X光源、待成像物体、散射介质、出射光阑和X光相机，所述X光源向X光相机方向发射X光，所述待成像物体、散射介质和出射光阑设置在X光源和X光相机之间，且沿光路方向依次设置。本实用新型的X光高分辨率成像探测装置结构简单，成本低，而且能够通过非相干的X光照射待成像物体形成携带待测物体信息的X光散斑。

基本信息

专利标题：

X光高分辨率成像探测装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921262785.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-08-06

授权号：

CN211148477U

授权日：

2020-07-31

发明人：

袁园陈辉

申请人：

成都仲伯科技有限公司;袁园;陈辉

申请人地址：

四川省成都市高新区益州大道北段388号8栋16层1618号

代理机构：

北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

黄冠华

优先权：

CN201921262785.4

主分类号：

G01N23/04

IPC分类号：

G01N23/04