X射线成像装置及X射线成像方法

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摘要

本发明实施例公开了一种X射线成像装置及X射线成像方法。该X射线成像装置包括X射线发射器、X射线强度探测器和控制模块；所述X射线发射器、待测物以及所述X射线强度探测器沿X射线传输方向依次设置；其中，所述X射线发射器包括靶材和阵列排布的电子发射源；所述靶材与各所述电子发射源均相对设置；各所述电子发射源均与所述控制模块连接，所述控制模块还与所述X射线强度探测器连接。本发明提供的X射线成像装置可以降低X射线成像装置的制造难度、制造成本以及提升成像的空间分辨率。

基本信息

专利标题：

X射线成像装置及X射线成像方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN109507215A

申请号：

CN201811417134.8

公开（公告）日：

2019-03-22

申请日：

2018-11-26

授权号：

CN109507215B

授权日：

2022-05-17

发明人：

戴庆李振军李驰白冰

申请人：

国家纳米科学中心

申请人地址：

北京市海淀区中关村北一条11号

代理机构：

北京品源专利代理有限公司

代理人：

孟金喆

优先权：

CN201811417134.8

主分类号：

G01N23/04

IPC分类号：

G01N23/04 G01N23/2251