免步进X射线光栅相衬成像方法
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摘要

本发明公开了一种免步进X射线光栅相衬成像方法,包括以下步骤:1)布置成像系统;2)改变所述分析光栅的角度或者改变所述相位光栅自成像条纹的周期,使探测器平面接收到莫尔条纹;3)调整成像系统结构参数获得背景位移曲线;4)在所述物点处放置样品,采集此时探测器接收到的条纹信息,获得物体位移曲线;5)根据获得的背景位移曲线和物体位移曲线,处理得到样品的吸收、折射和散射信息。与传统X射线光栅相衬成像方法采用相位步进相比,本发明由于免除了相位步进流程,大大提高了相衬成像的速度,降低了对机械部件的精度要求,同时,没有额外增加成本、物体不用移动扫描、对莫尔条纹的一致性要求也不高,是光栅相衬成像方法的有效补充。

基本信息
专利标题 :
免步进X射线光栅相衬成像方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110133011A
申请号 :
CN201910449219.2
公开(公告)日 :
2019-08-16
申请日 :
2019-05-28
授权号 :
CN110133011B
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
杜强袁刚胡涛孙明山杨晓冬
申请人 :
中国科学院苏州生物医学工程技术研究所
申请人地址 :
江苏省苏州市高新区科技城科灵路88号
代理机构 :
北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
韩飞
优先权 :
CN201910449219.2
主分类号 :
G01N23/041
IPC分类号 :
G01N23/041  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
G01N23/041
相位差图像,例如使用光栅干涉仪
法律状态
2022-04-15 :
授权
2019-09-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 23/041
申请日 : 20190528
2019-08-16 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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