一种X射线光栅相衬成像系统
专利权的终止
摘要

本实用新型提供一种X射线光栅相衬成像系统,用于对物体进行检测,包括:X射线发射装置,用于向被检测物体发射X射线;第一和第二吸收光栅,二者平行地依次位于X射线方向上,被检测物体折射的X射线经由该第一和/或第二吸收光栅形成强度变化的X射线信号,其中该X射线信号包含被折射X射线的折射角信息;检测单元,用于接收强度变化的X射线,并将X射线信号转换为电信号;以及数据处理单元用于从检测单元接收电信号,提取该电信号中折射角信息,并根据折射角信息利用预定算法来重构物体内部的折射率分布的断层图像。通过本实用新型,可以摆脱对射线源相干性的依赖,没有Tablot距离的限制,能使用十微米量级以上周期的光栅实现近分米量级视场的相衬成像。

基本信息
专利标题 :
一种X射线光栅相衬成像系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720190341.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-11-23
授权号 :
CN201191275Y
授权日 :
2009-02-04
发明人 :
康克军黄志峰张丽陈志强李元景刘以农赵自然刑宇翔
申请人 :
同方威视技术股份有限公司;清华大学
申请人地址 :
100084北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
龚海军
优先权 :
CN200720190341.5
主分类号 :
G01N23/04
IPC分类号 :
G01N23/04  G21K1/06  G02B27/52  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
法律状态
2017-12-26 :
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : G01N 23/04
申请日 : 20071123
授权公告日 : 20090204
2009-02-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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