一种X射线同步成像探测装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种X射线同步成像探测装置，属于X射线成像技术领域，解决了现有X射线探测装置成像效率低、不清晰的问题。该装置包括同步辐射X射线装置、第一成像组件和第二成像组件，第一成像组件和第二成像组件的结构相同，均包括预处理组件、反射镜、无限共轭光学系统和探测器；所述同步辐射X射线装置产生的X射线垂直于所述预处理组件和无限共轭光学系统的光轴；所述X射线与无限共轭光学系统的光轴相交处45度倾斜设置反射镜。该装置利用双探测器同时获得清晰的入射光图像和携带样品信息的出射光图像，并且操作简单，提高了成像效率。
基本信息
专利标题 ：
一种X射线同步成像探测装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921767088.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-21
授权号 ：
CN210863591U
授权日 ：
2020-06-26
发明人 ：
黎刚王艳萍张杰易栖如姜晓明
申请人 ：
中国科学院高能物理研究所;中国科学院北京综合研究中心
申请人地址 ：
北京市石景山区玉泉路19号乙
代理机构 ：
北京天达知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
马东伟
优先权 ：
CN201921767088.4
主分类号 ：
G01N23/04
IPC分类号 ：
G01N23/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
法律状态
2020-06-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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