一种基于双光路的X射线成像探测装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种基于双光路的X射线成像探测装置，属于X射线成像技术领域，解决了现有技术中单光路大视场成像对相机像素数要求高的问题。该装置包括预处理组件、物镜、分光镜、第一管镜、第二管镜、第一相机和第二相机，所述第一管镜和第二管镜的结构参数相同，所述第一相机和第二相机的芯片尺寸及分辨率相同；携带样品信息的X射线垂直入射预处理组件，被吸收、转化为携带样品信息的可见光图像，所述携带样品信息的可见光图像发出的光线被物镜放大后经分光镜分光，再分别经第一管镜和第二管镜聚焦至第一相机和第二相机，得到双光路探测图像。本实用新型通过设计双光路成像降低了对相机高像素数的要求。
基本信息
专利标题 ：
一种基于双光路的X射线成像探测装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921767116.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-21
授权号 ：
CN210863592U
授权日 ：
2020-06-26
发明人 ：
黎刚王艳萍张杰易栖如姜晓明
申请人 ：
中国科学院高能物理研究所;中国科学院北京综合研究中心
申请人地址 ：
北京市石景山区玉泉路19号乙
代理机构 ：
北京天达知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
马东伟
优先权 ：
CN201921767116.2
主分类号 ：
G01N23/04
IPC分类号 ：
G01N23/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
法律状态
2020-06-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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