X射线光路调节系统及X射线光路调节装置
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摘要

本发明涉及一种X射线光路调节装置,包括外框架、反光镜及调节支架。外框架设有容纳腔,外框架的两端延其轴向分别开设有第一连接孔及第二连接孔,外框架的侧壁设有与容纳腔相连通的入射孔。反光镜安装于容纳腔内,且反光镜与外框架的轴向形成夹角。调节支架通过多个螺纹紧固件安装于外框架的侧壁上,且多个螺纹紧固件沿调节支架的周向方向间隔设置。本发明还提供了一种X射线光路调节系统,包括上述X射线光路调节装置。这种X射线光路调节系统及X射线光路调节装置,可以通过调节螺纹紧固件的松紧程度,调整激光源的位置,进而可以保证反射后的激光从外框架的轴线射出,可以避免激光被准直管端部的光阑过多遮挡。

基本信息
专利标题 :
X射线光路调节系统及X射线光路调节装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111613362A
申请号 :
CN202010487977.6
公开(公告)日 :
2020-09-01
申请日 :
2020-06-02
授权号 :
CN111613362B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
郭思明王二彦吴金杰李乔新
申请人 :
中国计量科学研究院
申请人地址 :
北京市朝阳区北三环东路18号
代理机构 :
深圳市捷威知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
李航
优先权 :
CN202010487977.6
主分类号 :
G21K1/04
IPC分类号 :
G21K1/04  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术;照射装置;γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置,如聚焦或慢化
G21K1/02
使用光阑、准直器
G21K1/04
应用可变光阑、活门、斩波器
法律状态
2022-04-01 :
授权
2020-09-25 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G21K 1/04
申请日 : 20200602
2020-09-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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