荧光光学成像装置
专利权的终止
摘要

本发明公开了一种荧光光学成像装置。包括光密闭箱,激发光源、成像模块、成像支架和控制部分;激发光源产生用于激发荧光的激发光;成像模块包括成像探测器和荧光滤光片,荧光滤光片置于成像探测器前;成像支架结构为,定位螺杆固定在底座上,直线导轨下端与定位螺杆间隙配合,成像探测器平台与直线导轨间隙配合,活动杆位于底座上;控制部分包括中心控制器、多角度成像控制器,中心控制器通过多角度成像控制器控制直线导轨绕定位螺杆转动实现从多个角度对物体进行成像。本发明结构简单,配置灵活,费用低,体积小、可便携,多种实现方式可适用于不同应用场合,广泛用于生物医学、农业、地质、考古、石油等领域。

基本信息
专利标题 :
荧光光学成像装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1773258A
申请号 :
CN200510019826.3
公开(公告)日 :
2006-05-17
申请日 :
2005-11-16
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
骆清铭曾绍群陈延平刘谦张智红
申请人 :
华中科技大学
申请人地址 :
430074湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
代理机构 :
华中科技大学专利中心
代理人 :
朱仁玲
优先权 :
CN200510019826.3
主分类号 :
G01N21/64
IPC分类号 :
G01N21/64  G01N21/84  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发,因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/64
荧光;磷光
法律状态
2018-01-05 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G01N 21/64
申请日 : 20051116
授权公告日 : 20081008
终止日期 : 20161116
2008-10-08 :
授权
2006-07-12 :
实质审查的生效
2006-05-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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