基于磁粒子成像先验引导的荧光分子断层成像重建方法
公开
摘要
本发明属于荧光分子断层成像领域，具体涉及了一种基于磁粒子成像先验引导的荧光分子断层成像重建方法，旨在解决引导模态针对肿瘤无特异性、准确性和精度低，无法克服FMT深度受限的缺陷，从而光源向深处移动时FMT重建质量低的问题。本发明包括：获取MPI维断层图像、近红外荧光二维图像以及CT图像；构建可容纳ROI区域的SIS，并利用有限元法进行离散化；进行数据映射获取表面被测荧光信号、肿瘤周围组织和器官的解剖结构先验和肿瘤先验；通过前向模型计算获取系统矩阵，并构建目标函数；通过拉普拉斯正则化矩阵约束迭代求解目标函数，获得荧光分子断层成像重建结果。本发明以MPI引导FMT重建出形态结构完整、组织边缘清晰、空间位置准确的靶向肿瘤模型。
基本信息
专利标题 ：
基于磁粒子成像先验引导的荧光分子断层成像重建方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114581553A
申请号 ：
CN202210457053.0
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-04-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田捷安羽李光辉杜洋严达祥李佳倩
申请人 ：
北京航空航天大学
申请人地址 ：
北京市海淀区学院路37号
代理机构 ：
北京市恒有知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
郭文浩
优先权 ：
CN202210457053.0
主分类号 ：
G06T11/00
IPC分类号 ：
G06T11/00 G06T7/136 A61B5/00 A61B5/0515
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T11/00
2D图像的生成
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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