高分辨率光学成像装置
避免重复授权放弃专利权
摘要

一种高分辨率光学成像装置,包括子孔径成像系统(1),沿光路设置的子孔径准直镜(3)、反射镜(4)、多子孔径光束合成反射镜(5)、准直镜(7)、剪切干涉仪(8)、相干成像镜(9)以及CCD像面(10),所述子孔径成像系统(1)包括子孔径主反射镜(101)和子孔径次反射镜(102),所述剪切干涉仪(8)包括上、下两部分,所述上、下部分均由一个五角棱镜和一等腰棱镜胶合而成,所述胶合部位构成一胶合面,所述胶合面的表面设有分束膜,所述上、下部分中心对称设置,所述上、下部分之间设有分界面(804)。其解决了成像技术复杂以及成像设备体积、重量大、成本高的技术问题。具有等光程相干剪切的优点等。

基本信息
专利标题 :
高分辨率光学成像装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820029171.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-05-22
授权号 :
CN201203714Y
授权日 :
2009-03-04
发明人 :
陈立武赵葆常杨建峰马小龙常凌颖贺应红薛斌
申请人 :
中国科学院西安光学精密机械研究所
申请人地址 :
710119陕西省西安市高新区新型工业园区信息大道17号
代理机构 :
西安智邦专利商标代理有限公司
代理人 :
康凯
优先权 :
CN200820029171.7
主分类号 :
G02B27/58
IPC分类号 :
G02B27/58  G01S17/89  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/58
变迹法或超高分辨光学;光学合成光圈系统
法律状态
2012-02-01 :
避免重复授权放弃专利权
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101272529889
IPC(主分类) : G02B 27/58
专利号 : ZL2008200291717
申请日 : 20080522
授权公告日 : 20090304
放弃生效日 : 20080522
2009-03-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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