一种掩膜板框架及掩膜板卡组件
授权
摘要
本实用新型提供了一种掩膜板框架及掩膜板卡组件，属于显示技术领域，包括框架本体和掩膜板，所述掩膜板上设置有图形区域，所述框架本体中部开设有凹槽，所述凹槽内设置有等间隔分布的若干隔条，所述隔条将凹槽分隔成若干与掩膜板对应的开口，所述隔条侧面以及框架本体内侧安装有用于承载掩膜板的挡条。本实用新型实施例中，在制备有机发光二极管显示装置时，通过将掩膜板嵌入框架本体上部的开口内，并通过挡条对掩膜板进行承托，具有良好的定位效果，同时在使用完毕后还可将掩膜板及时取出，以便对其进行维护和更换；通过压紧件的设置还可将掩膜板压紧在对应开口内部，能够有效的放置掩膜板受热时发生移位，影响制备质量。
基本信息
专利标题 ：
一种掩膜板框架及掩膜板卡组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921947917.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-13
授权号 ：
CN211403117U
授权日 ：
2020-09-01
发明人 ：
魏盘生
申请人 ：
上海灏谷集成电路技术有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区川沙路1098号8幢
代理机构 ：
上海汇齐专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
童强
优先权 ：
CN201921947917.7
主分类号 ：
G03F1/64
IPC分类号 ：
G03F1/64
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/62
薄膜或薄膜集合，例如在支持框架上具有薄膜；其制备
G03F1/64
以框架为特征的,例如其结构或材料
法律状态
2020-09-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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