一种低成本简易制作光刻掩膜的方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明公开了一种低成本简易光刻掩膜的制作方法，其具体制作步骤为，用菲林输出带有设计图样的高分辨率胶片粘贴到石英玻璃上作为初始光刻掩膜，再将用胶片制得的光刻掩膜的图样面紧贴涂有光刻胶的镀铬玻璃，然后利用光刻技术对涂有2～40um厚光刻胶的铬玻璃曝光、显影、吹干后，在90℃～130℃温度软烘3～10分钟(优选温度为110℃～120℃)，使的光刻胶图形平滑，再用传统的湿法刻蚀技术刻蚀掉没有光刻胶保护的金属铬薄膜，除去残留光刻胶得到标准的光刻掩膜。该方法不仅制作工艺简单、成本低廉，而且特别适合于最小线宽在20um的生化分析芯片光刻掩膜及其他最小线宽在20um以上光刻掩膜的制备。
基本信息
专利标题 ：
一种低成本简易制作光刻掩膜的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1776523A
申请号 ：
CN200510019949.7
公开（公告）日 ：
2006-05-24
申请日 ：
2005-12-05
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
赵兴中刘侃刘威韩宏伟
申请人 ：
武汉大学
申请人地址 ：
430072湖北省武汉市武昌珞珈山
代理机构 ：
武汉华旭知识产权事务所
代理人 ：
刘荣
优先权 ：
CN200510019949.7
主分类号 ：
G03F1/00
IPC分类号 ：
G03F1/00 G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
法律状态
2009-11-04 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-07-19 ：
实质审查的生效
2006-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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