修正光刻掩膜中缺陷的方法和装置

专利权的终止

摘要

一种修正光刻掩膜中缺陷的方法，包括确定在原始掩膜上掩膜缺陷的存在，以及标识在所述原始掩膜上发现的各所述掩膜缺陷周围的可修补区域。封闭在所述原始掩膜上的各所述标识的可修补区域，以使在曝光所述原始掩膜期间，不印刷在所述可修补区域内的电路。形成修复掩膜，所述修复掩膜包括来自各所述标识的可修补区域的修正电路图形。

基本信息

专利标题：

修正光刻掩膜中缺陷的方法和装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1770008A

申请号：

CN200510117519.9

公开（公告）日：

2006-05-10

申请日：

2005-11-02

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

J·W·阿基森E·M·科克尔C·K·马格J·H·兰金A·K·斯坦珀

申请人：

国际商业机器公司

申请人地址：

美国纽约

代理机构：

北京市中咨律师事务所

代理人：

于静

优先权：

CN200510117519.9

主分类号：

G03F1/00

IPC分类号：

G03F1/00 G03F1/14 G03F7/20 H01L21/027

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F1/00

用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备

法律状态

2016-12-21 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101692763297
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利号 : ZL2005101175199
申请日 : 20051102
授权公告日 : 20100106
终止日期 : 20151102

2010-01-06 ：

授权

2006-07-05 ：

实质审查的生效

2006-05-10 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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