掩膜图案修正模型的训练方法及掩膜图案修正方法
实质审查的生效
摘要
本申请提供一种掩膜图案修正模型的训练方法及掩膜图案修正方法。该方法包括：获取光学邻近效应校正OPC前的掩膜图案和OPC后的掩膜图案；分别基于OPC前的掩膜图案和OPC后的掩膜图案，计算得到第一水平集函数和第二水平集函数；将第一水平集函数作为神经网络模型的输入，第二水平集函数作为神经网络模型的输出进行训练，得到掩膜图案修正模型。本申请提供的方法利用第一水平集函数和第二水平集函数分别表示OPC前的掩膜图案和OPC后的掩膜图案在离散网格上的图像，无需利用大量特征向量对掩膜图案邻近环境进行编码，提高了OPC的效率。
基本信息
专利标题 ：
掩膜图案修正模型的训练方法及掩膜图案修正方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114332057A
申请号 ：
CN202111678544.X
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
时雪龙燕燕李琛赵宇航陈寿面
申请人 ：
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司
申请人地址 ：
上海市嘉定区叶城路1288号6幢JT2216室
代理机构 ：
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 ：
朱颖
优先权 ：
CN202111678544.X
主分类号 ：
G06T7/00
IPC分类号 ：
G06T7/00 G06T5/00 G06N3/04 G06N3/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T7/00
图像分析
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06T 7/00
申请日 : 20211231
申请日 : 20211231
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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