硬掩膜组合物、硬掩膜层以及图案形成方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及包含由化学式1表示的化合物和溶剂的硬掩膜组合物、包含该硬掩膜组合物的固化产物的硬掩膜层，以及使用该硬掩膜组合物的图案形成方法。在化学式1中，A、R1至R5以及n的定义如说明书中所述。[化学式1]
基本信息
专利标题 ：
硬掩膜组合物、硬掩膜层以及图案形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114424122A
申请号 ：
CN202080065044.6
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2020-06-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林栽范
申请人 ：
三星SDI株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
曲在丹
优先权 ：
CN202080065044.6
主分类号 ：
G03F7/11
IPC分类号 ：
G03F7/11 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
G03F7/11
具有覆盖层或中间层的，例如，胶层
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/11
申请日 : 20200603
申请日 : 20200603
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
