硬掩膜组合物和硬掩膜及形成图案的方法
授权
摘要
本发明属于光刻领域，公开提供了一种硬掩膜组合物和硬掩膜及图案形成方法。所述硬掩膜组合物含有聚合物以及溶剂，所述聚合物具有化学式1所示的结构，其中，R1表示氢原子、碳原子为1～6的取代或非取代的烷基或碳原子数为6～30的取代或非取代的芳基；Ar1和Ar2各自独立地表示取代或非取代的苯基或萘基；n为1～100的整数。由本发明提供的硬掩膜组合物形成的硬掩膜具有高耐热性和耐刻蚀性。
基本信息
专利标题 ：
硬掩膜组合物和硬掩膜及形成图案的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111290216A
申请号 ：
CN202010087861.3
公开（公告）日 ：
2020-06-16
申请日 ：
2020-02-12
授权号 ：
CN111290216B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
王静肖楠宋里千
申请人 ：
厦门恒坤新材料科技股份有限公司
申请人地址 ：
福建省厦门市海沧区东孚镇山边路389号
代理机构 ：
厦门市精诚新创知识产权代理有限公司
代理人 ：
秦华
优先权 ：
CN202010087861.3
主分类号 ：
G03F7/11
IPC分类号 ：
G03F7/11
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
G03F7/11
具有覆盖层或中间层的，例如，胶层
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2020-07-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/11
申请日 : 20200212
申请日 : 20200212
2020-06-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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