膜图案形成方法、及其应用

专利权的终止

摘要

本发明提供可以抑制液状材料从膜图案形成区域流出、或向区域外润湿展开而形成规定图案形状和厚度的膜图案的膜图案形成方法、膜图案、抗蚀剂膜、和绝缘膜、以及电路基板、半导体装置、半导体装置、表面弹性波设备、表面弹性波振荡装置、电光学装置和电子机器。对基板面进行疏液化处理，在形成抗蚀剂膜的区域的周缘部配置液状材料的液滴，形成周缘带膜。接着对基板面进行亲液化处理，在由周缘带膜包围的区域内填充液状材料形成中央膜，由周缘带膜和中央膜形成抗蚀剂膜。绝缘膜也同样形成。电路基板、半导体装置、表面弹性波设备，具备由上述方法形成的膜，电光学装置具备该半导体装置，电子机器具备上述电光学装置、电路基板、表面弹性波振荡装置。

基本信息

专利标题：

膜图案形成方法、及其应用

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1816256A

申请号：

CN200610006991.X

公开（公告）日：

2006-08-09

申请日：

2006-01-26

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

丰田直之

申请人：

精工爱普生株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

汪惠民

优先权：

CN200610006991.X

主分类号：

H05K3/12

IPC分类号：

H05K3/12 H05K3/00 B41J2/005 H01L21/00 H01L27/32 H05B33/10