掩膜版
授权
摘要
本实用新型实施例涉及一种掩膜版，包括：基板；图形层，所述图形层位于所述基板上，且所述图形层包括图形区以及环绕所述图形区的外围区；透光盖板，所述透光盖板设置于所述外围区上，所述透光盖板、所述基板与所述外围区围成掩膜腔室，所述图形区位于所述掩膜腔室内。本实用新型能够显著改善掩膜版质量，提高掩膜版的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
掩膜版
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920769075.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-24
授权号 ：
CN210072315U
授权日 ：
2020-02-14
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
代理机构 ：
上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
成丽杰
优先权 ：
CN201920769075.4
主分类号 ：
G03F1/38
IPC分类号 ：
G03F1/38
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/38
具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
法律状态
2020-02-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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