一种光掩膜板
授权
摘要
本实用新型涉及半导体技术领域，具体为一种光掩膜板，包括装置主体，装置主体上设有对照图案，装置主体的背面设有沿着装置主体宽度方向设置的标签，装置主体背面还设有石英玻璃基板，石英玻璃基板上设有下磁性膜保护贴片，装置主体的正面设有与下磁性膜保护贴片之间通过磁力作用吸附在装置主体上的上磁性膜保护贴片，装置主体的中心位置处设有沿着装置主体宽度方向设置的中心对折条纹带。本实用新型方便使用，减少灰尘附着在装置主体上，提高产品的质量。
基本信息
专利标题 ：
一种光掩膜板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921300410.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-12
授权号 ：
CN210270505U
授权日 ：
2020-04-07
发明人 ：
杜良辉
申请人 ：
江苏壹度科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省镇江市句容市开发区崇明西路102号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921300410.2
主分类号 ：
G03F1/48
IPC分类号 ：
G03F1/48 G03F1/38
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/38
具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F1/48
保护涂层
法律状态
2020-04-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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