一种掩膜工艺中手动拆膜用平台装置
授权
摘要
本实用新型属于半导体制造领域,提供了一种掩膜工艺中手动拆膜用平台装置,包括底座,底座的上端面设置有托盘槽,托盘槽内放置有用于放置掩膜版的托盘,底座的上端面在托盘槽的外围设置有若干下压组件,每个下压组件的下压执行部分位于托盘的上方。本实用新型提供的掩膜工艺中手动拆膜用平台装置,结构简单,使用方便,对掩膜版进行有效固定,防止拆膜过程中掩膜版出现晃动,避免掩膜版出现划伤、报废的情况。
基本信息
专利标题 :
一种掩膜工艺中手动拆膜用平台装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022475749.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-31
授权号 :
CN213276254U
授权日 :
2021-05-25
发明人 :
华卫群尤春朱磊顾梦星韦庆宇杨东海
申请人 :
无锡中微掩模电子有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市新区菱湖大道202号
代理机构 :
无锡苏元专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
吴忠义
优先权 :
CN202022475749.5
主分类号 :
G03F1/72
IPC分类号 :
G03F1/72 G03F1/48 G03F1/82 B65D19/44 B65D19/38
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/72
掩膜缺陷的修复或校正
法律状态
2021-05-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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