一种掩膜工艺中手动拆膜用平台装置
授权
摘要
本实用新型属于半导体制造领域，提供了一种掩膜工艺中手动拆膜用平台装置，包括底座，底座的上端面设置有托盘槽，托盘槽内放置有用于放置掩膜版的托盘，底座的上端面在托盘槽的外围设置有若干下压组件，每个下压组件的下压执行部分位于托盘的上方。本实用新型提供的掩膜工艺中手动拆膜用平台装置，结构简单，使用方便，对掩膜版进行有效固定，防止拆膜过程中掩膜版出现晃动，避免掩膜版出现划伤、报废的情况。
基本信息
专利标题 ：
一种掩膜工艺中手动拆膜用平台装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022475749.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-31
授权号 ：
CN213276254U
授权日 ：
2021-05-25
发明人 ：
华卫群尤春朱磊顾梦星韦庆宇杨东海
申请人 ：
无锡中微掩模电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新区菱湖大道202号
代理机构 ：
无锡苏元专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
吴忠义
优先权 ：
CN202022475749.5
主分类号 ：
G03F1/72
IPC分类号 ：
G03F1/72 G03F1/48 G03F1/82 B65D19/44 B65D19/38
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/72
掩膜缺陷的修复或校正
法律状态
2021-05-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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