掩膜工艺用喷涂装置

专利权的终止

摘要

本实用新型涉及一种掩膜工艺用喷涂装置，包括支架和通过安装架连接在所述支架上的喷嘴，所述喷嘴和支架之间连接有至少一个通过对喷嘴产生相应拉力或推力以补偿喷嘴自身形变使喷嘴保持平直度的调节架。所述调节架包括固定在所述支架上的连接角板和对喷嘴产生相应拉力或推力的调节杆，所述调节杆的一端与所述连接角板连接，另一端与所述喷嘴连接。本实用新型通过在支架与喷嘴间设置调节架，减小喷嘴形变并对已产生的形变施加外力进行补偿，从而可使喷嘴本身平直性持续控制在所需技术范围内，延长了喷嘴的使用寿命，降低了生产成本，提高生产品质。

基本信息

专利标题：

掩膜工艺用喷涂装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720149450.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-06-05

授权号：

CN201083958Y

授权日：

2008-07-09

发明人：

张学智

申请人：

北京京东方光电科技有限公司

申请人地址：

100176北京市经济技术开发区西环中路8号

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司

代理人：

刘芳

优先权：

CN200720149450.2

主分类号：

G03F7/16

IPC分类号：

G03F7/16

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/16

涂层处理及其设备

法律状态

2017-07-25 ：

专利权的终止

专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101736765580
IPC(主分类) : G03F 7/16
专利号 : ZL2007201494502
申请日 : 20070605
授权公告日 : 20080709
终止日期 : 无

2015-07-08 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101717303878
IPC(主分类) : G03F 7/16
专利号 : ZL2007201494502
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 北京京东方光电科技有限公司
变更后权利人 : 京东方科技集团股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100176 北京市经济技术开发区西环中路8号
变更后权利人 : 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 北京京东方光电科技有限公司
登记生效日 : 20150616

2008-07-09 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

文件下载

暂无PDF文件可下载