一种掩膜版光学膜贴合治具
授权
摘要
本实用新型公开了一种掩膜版光学膜贴合治具，包括底板，还包括内槽、外槽、粘合胶、圆弧挡块和光学膜边框，所述底板上设置内槽和外槽，所述内槽和外槽均为环形结构，所述内槽为外槽底部向下凹陷形成的凹槽，所述粘合胶为环形条状，所述粘合胶设置在内槽内，所述粘合胶的高度高于内槽的深度并且低于外槽的深度，所述圆弧挡块设置在底板上外槽的四个角外侧，所述光学膜边框安装在外槽内，所述光学膜边框的底部与粘合胶的顶部相贴合。本实用新型优点是：减少了人手动贴合产生光学膜的可能性，还提高了产品精度；扩大了可生产产品种类，提高了光学膜的利用率，降低了生产制造成本。
基本信息
专利标题 ：
一种掩膜版光学膜贴合治具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021763060.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-21
授权号 ：
CN212433576U
授权日 ：
2021-01-29
发明人 ：
林伟郑宇辰林超王伟轶周荣梵
申请人 ：
成都路维光电有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市高新区康强三路1666号
代理机构 ：
成都行之专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张严芳
优先权 ：
CN202021763060.6
主分类号 ：
G03F1/48
IPC分类号 ：
G03F1/48 G03F1/38
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/38
具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F1/48
保护涂层
法律状态
2021-01-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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