本实用新型公开了一种光掩模和曝光装置。所述光掩模包括：掩模板，所述掩模板上的掩模图案层包括M个单元图案；微透镜组阵列，包括N个微透镜组；设置一个所述微透镜组对应一个所述单元图案，所述微透镜组只通过从对应的所述单元图案经过的光线，所述单元图案与其在被曝光体上的成像的宽度比值小于1；所述掩模图案层中的任意相邻两个单元图案的距离大于单元图案的轮廓尺寸，任意相邻的两个所述单元图案在被曝光体上的成像不重叠。所述光掩模中单元图案被微透镜组放大曝光在曝光体上，形成单独的曝光图像，且分辨率高、焦深大，提高了加工精度，所述光掩模结构简单，成本低。所述曝光装置包括所述光掩模，加工精度高，且成本低。