掩模
实质审查的生效
摘要
掩模。公开了一种掩模及其制造方法。制造掩模的方法包括：在基板的图案区域和围绕图案区域的辅助区域上形成导电层；将包括导电层的基板放置在镀槽中；在导电层上形成镀层；以及将基板和导电层与镀层分开。
基本信息
专利标题 ：
掩模
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114540891A
申请号 ：
CN202210149517.1
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2019-09-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金贤俊
申请人 ：
乐金显示有限公司
申请人地址 ：
韩国首尔
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙东喜
优先权 ：
CN202210149517.1
主分类号 ：
C25D5/02
IPC分类号 ：
C25D5/02 C25D5/10 C25D7/00 H01L51/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D5/00
以工艺方法为特征的电镀；工件的预处理或后处理
C25D5/02
局部表面上的电镀
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25D 5/02
申请日 : 20190902
申请日 : 20190902
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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