本实用新型涉及一种两次曝光用长掩模版，适当加大长掩模版的宽度使其超过正常宽度，从而使两次曝光的图形区域位于中心较为平坦的区域内，以减少聚焦弯曲值并使其到达所允许的范围；掩模版的尺寸范围为：宽度方向200mm－350mm，长度方向250mm～350mm。掩模版上的两次曝光图形所构成的区域为长方形，该长方形区域的短边位于掩模版宽度方向的中心位置。通过在一次扫描曝光中完成普通曝光时要两次扫描加一次曝光台运动才能完成的两个区域的曝光，因而大大减少了两次曝光技术所需要的时间，降低了两次曝光技术进入大生产的困难。