一种掩模版架、掩模版架与掩模版间接触电阻的检测系统
授权
摘要
本实用新型提供一种掩模版架、掩模版架与掩模版间接触电阻的检测系统,版架上增设至少一对顶针,每对所述顶针中,一个顶针与所述版架绝缘,另一个顶针与所述版架导通连接,每对所述顶针用于与放置在所述版架上的掩模版的金属层接触,并利用电阻检测器与所述至少一对顶针通过导线连接,本专利申请便于及时检测掩模版架与掩模版之间的接触电阻,如果接触电阻过大,则需马上重装掩模版,直到接触电阻小于预设值,从而有效避免产品因错位而报废、提高产品成品率,本结构结构简单、成本低、操作方便,有效避免因装版不达标而发生产品报废情况的出现。
基本信息
专利标题 :
一种掩模版架、掩模版架与掩模版间接触电阻的检测系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921275296.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-07
授权号 :
CN210864316U
授权日 :
2020-06-26
发明人 :
黄宏君
申请人 :
无锡迪思微电子有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市太湖国际科技园菱湖大道180号-6
代理机构 :
无锡市朗高知识产权代理有限公司
代理人 :
贾传美
优先权 :
CN201921275296.2
主分类号 :
G03F1/64
IPC分类号 :
G03F1/64 G03F7/20 G01R27/02
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/62
薄膜或薄膜集合,例如在支持框架上具有薄膜;其制备
G03F1/64
以框架为特征的,例如其结构或材料
法律状态
2020-06-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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