一种掩模版的缺陷检测方法及检测系统
实质审查的生效
摘要
本申请提供的掩模版的缺陷检测方法及检测系统，极紫外光束入射进入光学单元，所述光学单元改变入射的极紫外光束的光瞳分布，以得到适配检测情况的分辨率，所述极紫外光束对待检测掩模版的缺陷进行检测，本申请提供的掩模版的缺陷检测方法及检测系统，通过针对不同检测情况对分辨率的要求，改变光瞳分布即光瞳函数，从而提高缺陷检测的分辨率。
基本信息
专利标题 ：
一种掩模版的缺陷检测方法及检测系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114371180A
申请号 ：
CN202210053970.2
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2022-01-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王丽萍张旭金春水
申请人 ：
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请人地址 ：
吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
代理机构 ：
深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孟洁
优先权 ：
CN202210053970.2
主分类号 ：
G01N21/95
IPC分类号 ：
G01N21/95 G01N21/88
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
G01N21/95
特征在于待测物品的材料或形状
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/95
申请日 : 20220118
申请日 : 20220118
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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