有图形晶圆及掩模版的缺陷检测方法及装置
授权
摘要
本发明实施例提供一种有图形晶圆及掩模版的缺陷检测方法及装置,该方法包括:获取待检测的器件的图像数据,器件包括有图形晶圆或掩模版,图像数据用于反映器件的光照区域的电磁场分布情况;将图像数据输入至与器件对应的缺陷检测模型,输出与器件对应的缺陷检测结果;缺陷检测模型是基于样本图像数据以及预先确定的与样本图像数据对应的样本缺陷类型进行训练后获得的。本发明实施例由于通过图像数据的方式检测有图形晶圆和掩模版的缺陷,相比于探测电磁扰动来检测有图形晶圆和掩模版的缺陷的方式,较少的实验样本来实现仿真数据的逼近,且利用网络模型处理多维非线性问题的能力,能够显著提高缺陷检测的灵敏度。
基本信息
专利标题 :
有图形晶圆及掩模版的缺陷检测方法及装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN109596638A
申请号 :
CN201811259816.0
公开(公告)日 :
2019-04-09
申请日 :
2018-10-26
授权号 :
CN109596638B
授权日 :
2022-05-06
发明人 :
刘立拓周维虎陈小梅李冠楠纪荣祎石俊凯
申请人 :
中国科学院光电研究院
申请人地址 :
北京市海淀区邓庄南路9号
代理机构 :
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 :
王莹
优先权 :
CN201811259816.0
主分类号 :
G01N21/95
IPC分类号 :
G01N21/95
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
G01N21/95
特征在于待测物品的材料或形状
法律状态
2022-05-06 :
授权
2019-05-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/95
申请日 : 20181026
申请日 : 20181026
2019-04-09 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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