一种掩模版姿态监测方法、装置及掩模版颗粒度检测设备
授权
摘要
本发明公开了一种掩模版姿态监测方法、装置及掩模版颗粒度检测设备，其中，监测方法包括：获取至少一个标定点至标准面沿第一方向的距离；获取至少一个标定点至待测掩模版上第一检测点、第二检测点和第三检测点沿第一方向的距离，根据获取的数据计算待测掩模版相对于标准面绕第二方向的偏转角度以及绕第三方向的偏转角度，本发明能够在掩模版颗粒度检测过程中，在线对掩模版的姿态进行监测，简化监测设备，提高监测效率。
基本信息
专利标题 ：
一种掩模版姿态监测方法、装置及掩模版颗粒度检测设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111380509A
申请号 ：
CN201811630079.0
公开（公告）日 ：
2020-07-07
申请日 ：
2018-12-28
授权号 ：
CN111380509B
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
张一志杨晓青
申请人 ：
上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
孟金喆
优先权 ：
CN201811630079.0
主分类号 ：
G01C21/00
IPC分类号 ：
G01C21/00 G01C1/00 G01N15/02
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01C
测量距离、水准或者方位；勘测；导航；陀螺仪；摄影测量学或视频测量学
G01C21/00
导航；不包含在G01C1/001至G01C19/00组中的导航仪器
法律状态
2022-04-01 ：
授权
2020-07-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01C 21/00
申请日 : 20181228
申请日 : 20181228
2020-07-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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