一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具，包括六吋底座、五吋板、光罩夹、底座、站脚、第一滑块、压板和第二滑块，所述六吋底座内侧安装有五吋板，六吋底座外侧安装有底座，底座底端安装有站脚，底座侧边中部安装有第一滑块，第一滑块上端安装有压板，压板上端安装有第二滑块，五吋板上方设有光罩夹，光罩夹连接底座侧边。本实用新型结构合理，操作简单，能够有效的对6英寸的掩膜版进行修补工艺，避免将6英寸的掩膜版报废后重新生产，提高了掩膜版的生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922356261.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-20
授权号 ：
CN210742673U
授权日 ：
2020-06-12
发明人 ：
陈杰姜巍
申请人 ：
上海凸版光掩模有限公司
申请人地址 ：
上海市徐汇区宜山路800号
代理机构 ：
北京专赢专利代理有限公司
代理人 ：
李斌
优先权 ：
CN201922356261.8
主分类号 ：
G03F1/72
IPC分类号 ：
G03F1/72
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/72
掩膜缺陷的修复或校正
法律状态
2021-12-03 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 1/72
申请日 : 20191220
授权公告日 : 20200612
终止日期 : 20201220
申请日 : 20191220
授权公告日 : 20200612
终止日期 : 20201220
2020-06-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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