一种掩模版传输组件及光刻系统
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种掩模版传输组件及光刻系统,包括第一版库,用于承载版盒,第一版库连接有第一升降结构,以通过第一升降结构将目标掩模版传输至第一交接工位;第一机械手,被配置为在第一交接工位获取目标掩模版,并放入第二版库;第二版库,用于承载目标掩模版,第二版库连接有第二升降结构,以通过第二升降结构实现在第一交接工位与第二交接工位之间的移动,第二交接工位具有第二高层,且第二高层高于第一高层;第二机械手,被配置为在第二交接工位,从第二版库中取出目标掩模版,并传输至光刻机的掩模台。本公开的掩模版传输组件及光刻系统,通过可升降的第一版库和第二版库的配合,实现友好上料的同时提高掩模版的转运效率。

基本信息
专利标题 :
一种掩模版传输组件及光刻系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114280897A
申请号 :
CN202111627327.8
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王浩楠关宏武郎平林继柱佀海燕温鹏
申请人 :
北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
申请人地址 :
北京市大兴区经济技术开发区泰河三街1号
代理机构 :
工业和信息化部电子专利中心
代理人 :
田卫平
优先权 :
CN202111627327.8
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20211228
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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