光刻系统
授权
摘要
本实用新型涉及光学技术领域，公开一种光刻系统，以提高操作的便利性和联动的智能性。本实用新型包括：第一光源模块，用于发出光刻用的激光；开关控制器，用于控制第一光源模块射入偏振控制模块的光路“开”、“关”状态；偏振控制模块，用于以像素为单位调制光刻激光的偏振方向；位移台，用于承载样品、并跟踪开关控制器的状态同步切换XY轴的像素位移，以及根据光斑校正模块的指令切换Z轴的像素位移；在显微物镜与偏振控制模块之间设置有二向色镜；第二光源模块，用于发出光斑大小校正用但不改变样品光刻信息的可见光，该可见光经显微物镜射向样品、且样品反射的可见光后再经显微物镜返回给用于校正光斑大小的光斑校正模块。
基本信息
专利标题 ：
光刻系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020997090.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-03
授权号 ：
CN212411012U
授权日 ：
2021-01-26
发明人 ：
代林茂李晓春张礼朝黄晖辉陈鸿飞
申请人 ：
长沙麓邦光电科技有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市高新技术开发区汇智中路169号金导园工业厂房A区6栋201房
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020997090.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B21/02 G02B21/26 G02B21/06 G02B27/28 G02F1/03
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-01-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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