本申请公开了一种光刻加工系统及方法，本申请的光刻加工系统包括光源模块、能量调节模块、光束调制模块、光束整形模块、聚焦模块和位移模块。能量调节模块与光源模块耦合连接；光束调制模块与能量调节模块耦合连接；光束整形模块与光束调制模块耦合连接；聚焦模块与光束整形模块耦合连接，其中，聚焦模块包括平凸柱面透镜；位移模块用于带动待加工样品移动。本申请通过光束整形模块和聚焦模块的处理，能够获得能量均匀分布、面积更大的线光源，从而能够对待加工样品进行均匀烧蚀，能够提高加工效率；同时，利用位移模块带动待加工样品移动，以对下一区域进行加工，从而能够实现大面积微纳结构的制备。