用于光刻光束生成的方法和系统
专利权的终止
摘要
一种光刻照射装置和方法，包括：从多个对应的辐射源接收多个源辐射光束；使多个源辐射光束沿公共光束路径偏转，由此生成了辐射投影光束；为辐射投影光束赋予截面图案；和将构图的辐射投影光束投影到基板的目标部分上。
基本信息
专利标题 ：
用于光刻光束生成的方法和系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1797217A
申请号 ：
CN200510137769.9
公开（公告）日 ：
2006-07-05
申请日 ：
2005-12-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
P·W·H·德贾格J·J·M·巴塞曼斯A·J·A·布鲁恩斯马R·－H·穆尼格施米特H·J·P·温克
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
吴立明
优先权 ：
CN200510137769.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2018-12-14 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20051228
授权公告日 : 20091202
终止日期 : 20171228
申请日 : 20051228
授权公告日 : 20091202
终止日期 : 20171228
2009-12-02 ：
授权
2007-12-12 ：
实质审查的生效
2006-07-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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