用于光刻成像的方法和设备
实质审查的生效
摘要
一种使用光刻系统模拟待成像于衬底上的图案的方法，所述方法包括：获得待成像于所述衬底上的图案；使所述图案平滑化；以及模拟平滑化的图案的图像。所述平滑化可以包括应用图形低通滤波器，并且所述模拟可以包括应用来自边缘滤波器库的边缘滤波器。
基本信息
专利标题 ：
用于光刻成像的方法和设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114503035A
申请号 ：
CN202080070209.9
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-07-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·F·沙伊甘萨拉克拉斐尔·C·豪厄尔郑羽南尉海清曹宇
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张启程
优先权 ：
CN202080070209.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200729
申请日 : 20200729
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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