一种液晶成像光刻装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种液晶成像光刻装置，包括机体，所述机体内部上下方向依次安装有曝光光源、平行光聚焦透镜、冷空气流动层、LCD液晶屏和光刻面板，其中，所述光刻面板上表面贴敷有均匀覆盖膜胶层，所述冷空气流动层与所述LCD液晶屏之间设有滤波片，所述LCD液晶屏与所述感光膜间设有高精度聚焦成像透镜模组，所述冷空气流动层横嵌在在所述机体内部，所述冷空气流动层与所述机体外部相通并通过管道连接到气体装置，所述LCD液晶屏电连接到所述上位机。本实用新型提供一种液晶成像光刻装置，加入可选择光波段的LED高准直平行光光刻系统，可以直接对需要运用图像转移的感光涂层进行高精度，高转换效率，以及环保无污染和零库存的生产和运作。
基本信息
专利标题 ：
一种液晶成像光刻装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921963031.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-14
授权号 ：
CN210666333U
授权日 ：
2020-06-02
发明人 ：
周春铭罗一鸣刘萍
申请人 ：
南京特斯富电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市江宁区兴苑路学府世家办公楼14栋608室
代理机构 ：
北京中企鸿阳知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
徐晶石
优先权 ：
CN201921963031.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F1/00 G02F1/13
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-06-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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