本实用新型公开了一种液晶板实现掩膜版载体的光刻装置，依次包括照射部分、液晶板、CCD检测器、透镜组和覆有光刻胶的硅片，所述照射部分、液晶板、CCD检测器、透镜组和硅片同轴设置并且之间留有间距，所述的硅片固定于一精密工作台上，所述的精密工作台可沿X、Y向直线运动；照射部分、液晶板和CCD检测器均可设置散热装置。本实用新型的有益效果是利用活性液晶板作为掩膜版的载体省去了掩膜版的制作过程，并且使其自身表面洁净度的检测变得很简单，一旦自身表面沾有灰尘或划伤就会很方便被检测出来，从而终止光刻过程，解决了传统光刻时不同图形须更换掩膜版和检测不到位而导致整批产品质量的问题。