光刻装置

发明专利申请公布后的视为撤回

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摘要

一种湿浸式光刻法的光刻装置，其中在基底台的不同部件之间的密封可以布置成减小不同部件之间的力的传递。

基本信息

专利标题：

光刻装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101916041A

申请号：

CN201010233655.5

公开（公告）日：

2010-12-15

申请日：

2005-12-07

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

P·R·M·亨努斯J·J·S·M·梅坦斯P·J·C·H·斯穆德斯P·斯米特斯

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

王波波

优先权：

CN201010233655.5

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20

相关图片

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2013-06-12 ：

发明专利申请公布后的视为撤回

号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101605619249
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2010102336555
申请公布日 : 20101215

2011-02-02 ：

实质审查的生效

号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101035092984
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2010102336555
申请日 : 20051207

2010-12-15 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

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