综合式直写光刻装置
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及光刻技术领域,解决了现有的分步直写光刻技术效率低,单象素的连续性扫描光刻操作难度大的问题,将两者结合,提供一种综合式直写光刻装置。结构特点是:在透镜和投影镜头之间设有反射镜;两个以上不同倍率的投影镜头设于盘状转换器上,光学定位检测系统包括与转换器上的投影镜头共轴的光学波长分束器,光学波长分束器一侧同轴设有包括检测成像透镜、光敏感探测器的成像系统。该装置采用可变倍率的投影镜头,提高曝光的效率。采用共轴的光学定位检测系统,达到改变的倍率的投影镜头产生的图形能进行无间隙连接。该装置采用直写扫描和精缩排版的混合法,实现光滑的图形轮廓,并提高曝光的效率。

基本信息
专利标题 :
综合式直写光刻装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720037805.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-05-23
授权号 :
CN201083959Y
授权日 :
2008-07-09
发明人 :
刘文海刘军胡亦宁杨丹宁
申请人 :
芯硕半导体(合肥)有限公司
申请人地址 :
230001安徽省合肥市经济技术开发区乡村花园会所二楼
代理机构 :
合肥金安专利事务所
代理人 :
金惠贞
优先权 :
CN200720037805.9
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2017-06-23 :
专利权的终止
专利权有效期届满号牌文件类型代码 : 1611
号牌文件序号 : 101729159566
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2007200378059
申请日 : 20070523
授权公告日 : 20080709
终止日期 : 无
2008-07-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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