光刻设备

授权

摘要

本实用新型公开一种光刻设备，用以在一转印滚轮的外表面曝光，光刻设备由左至右依次包括：一曝光装置、一半波片、一空间滤波器、一准直透镜、一分辨率光罩、一会集透镜、一光晕消除装置、以及一四分之一波片。曝光装置用来投射波长范围300纳米(nm)至450纳米(nm)的一激光图像；半波片用来调整激光图像的偏振状态；空间滤波器用来减少光刻设备的空间噪声；分辨率光罩用来提升激光图像的分辨率；四分之一波片用来调整激光图像的偏振状态；光晕消除装置用来减弱通过会集透镜的主光轴的激光图像的能量。借由“光晕消除装置用来减弱通过会集透镜的主光轴的激光图像的能量”的技术方案，光刻设备投影出来的图像的分辨率能被有效地提升。

基本信息

专利标题：

光刻设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021729021.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-08-18

授权号：

CN212647261U

授权日：

2021-03-02

发明人：

林刘恭

申请人：

光群雷射科技股份有限公司

申请人地址：

中国台湾

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司

代理人：

刘彬

优先权：

CN202021729021.4

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20