一种光刻设备
授权
摘要
本实用新型涉及光刻技术领域，尤其涉及一种光刻设备，包括机台组件、支撑架和光刻组件，其中机台组件包括基准台和载物板，载物板设置在基准台上，载物板用于放置待加工件；支撑架设置在基准台上，支撑架与载物板能够沿第一方向相对运动；光刻组件设置在支撑架上，用于投射光刻光斑，光刻组件与载物板能够沿第二方向相对运动，第二方向与第一方向呈夹角设置。相较于现有技术中只能在一个方向上移动光刻的光刻设备，本实用新型提供的光刻设备能够在两个方向上移动光刻组件进行光刻，使得光刻效率更高。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122568625.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-25
授权号 ：
CN216449892U
授权日 ：
2022-05-06
发明人 ：
陈国军吴景舟马迪
申请人 ：
江苏迪盛智能科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区木渎镇金山南路868号锐晶大厦2号楼2层
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
杨雪
优先权 ：
CN202122568625.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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