一种光刻设备

授权

摘要

本实用新型公开了一种光刻设备，包括激光输出装置、光路选择装置、检测模块和光刻模块，所述激光输出装置发射激光至所述光路选择装置，所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块。本实用新型还公开了一种光刻设备，利用上述光刻设备进行光刻。通过所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块，以使光刻设备能实时检测曝光能量，保证了光刻效果，提高了光刻效率，提升了产品的良品率。

基本信息

专利标题：

一种光刻设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020503405.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-04-08

授权号：

CN211786586U

授权日：

2020-10-27

发明人：

吕帅徐顺达王冠楠朱鹏飞浦东林

申请人：

苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学

申请人地址：

江苏省苏州市工业园区新昌路68号

代理机构：

上海波拓知识产权代理有限公司

代理人：

周志中

优先权：

CN202020503405.8

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20