一种光刻设备包括投射系统和单独可控单元阵列，投射系统配置成将辐射束以子辐射束阵列的形式投射到衬底上，而单独可控单元阵列配置成调制子辐射束以便在衬底上形成所需剂量图案。在时间上由局部曝光阵列组成所需剂量图案，其中至少相邻的局部曝光是以显著不同的时间成像的，并且其中每次局部曝光都由子辐射束之一产生。光刻设备还包括光栅化装置和数据处理装置，光栅化装置设置成将定义所需剂量图案的数据转换成代表图案中对应的点序列所需的剂量的数据序列，而数据处理装置配置成接收数据序列并构成适合于控制单独可控单元阵列的控制信号。