光刻设备、器件制造方法和由此制造的器件

发明专利申请公布后的驳回

摘要

衬底处理设备，包括光刻设备，该光刻设备包括：用于提供辐射投影束的照射系统，用于在投影束的截面赋予图案的单独可控元件阵列，用于把已构图束投影到衬底目标部分的投影系统。该处理设备也包括设置成输出衬底的至少一个连续段的衬底供应装置，和设置成从衬底供应装置传送每个输出的衬底连续段并经过投影系统，以使得投影系统能够沿着衬底的每个连续段把已构图束投影到一串目标部分上的衬底传送系统。在某些实施例中，从卷提供衬底的长段，但可选择地可以提供一串分立的薄片。

基本信息

专利标题：

光刻设备、器件制造方法和由此制造的器件

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1815370A

申请号：

CN200510121657.4

公开（公告）日：

2006-08-09

申请日：

2005-12-21

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

J·洛夫B·A·J·勒蒂克休伊斯P·斯皮特J·弗卢伊特

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

肖春京

优先权：

CN200510121657.4

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/027