光刻设备和器件制造方法

专利权的终止

摘要

一种利用代表辐射源的波长改变的数据提供焦平面控制或提供传感器数据修正的方法和设备。在第一方面，波长变化数据被提供用于控制系统，所述控制系统通过移动包括例如掩模台、衬底台或投影光学系统的光学元件的设备部件控制聚焦。在第二方面，变化的数据用于修正例如由机内传感器，例如透射图像传感器，测量的焦平面位置数据。这两个方面可以组合在单个设备中，或者可以独立地使用。

基本信息

专利标题：

光刻设备和器件制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101180582A

申请号：

CN200680018029.6

公开（公告）日：

2008-05-14

申请日：

2006-03-23

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

埃瑞克·派卓斯·伯曼汤姆斯·约瑟夫斯·玛丽亚·卡斯腾米勒约翰尼斯·威尔荷尔姆斯·玛丽亚·科尼利斯·蒂尤乌森贝尔雷切·莫爱斯特马克·安东尼斯·玛丽亚·哈斯特

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维德霍温

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

王新华

优先权：

CN200680018029.6

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20